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簡要描述：激光 分子束外延系統(tǒng)是一種用于物理學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，綜合了脈沖激光沉積和分子束外延的特點(diǎn)和優(yōu)勢。它能在高真空、真空條件下實(shí)現(xiàn)原位實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜原子尺度層狀外延生長。這一系統(tǒng)適用于多種有機(jī)、無機(jī)薄膜的制備，尤其適宜于用其它制膜設(shè)備和方法難以制備的高熔點(diǎn)、多元素（特別是含有氣體元素時(shí)）、復(fù)雜層狀結(jié)構(gòu)的薄膜和超晶格的制備。
產(chǎn)品型號：廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時(shí)間：2024-07-10訪 問 量：331產(chǎn)品分類
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| 品牌 | 其他品牌 | 腔體尺寸 | 球形腔體，直徑：400 mm |
|---|---|---|---|
| 樣品尺寸 | 1 英寸或 2 英寸向下兼容 | 樣品加熱 | 輻射式加熱 / 電阻式加熱 / 激光加熱 1000 ℃ / 950 ℃ / 1400 ℃ |
| RHEED | 兩級差分，30 kV | 靶臺操控 | 6 靶位，1 英寸靶托，公自轉(zhuǎn)設(shè)計(jì) |
| 抽氣泵組 | 進(jìn)口：Pfeiffer分子泵，685 l/s Leybold干泵，14.5 m3/h | 氣路 | 進(jìn)口：質(zhì)量流量計(jì)MKS，50 / 100 sccm |
| 控壓方式 | 手動(dòng)角閥/漏閥控壓 | 極限真空 | 5 x 10-9 mbar |
| 光路支架 | 可根據(jù)用戶現(xiàn)場定制 | 軟件控制 | 動(dòng)作程序控制，軟件編程控制工藝，設(shè)備全套互鎖 |
激光 分子束外延系統(tǒng)是一種用于物理學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，綜合了脈沖激光沉積和分子束外延的特點(diǎn)和優(yōu)勢。它能在高真空、真空條件下實(shí)現(xiàn)原位實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜原子尺度層狀外延生長。這一系統(tǒng)適用于多種有機(jī)、無機(jī)薄膜的制備，尤其適宜于用其它制膜設(shè)備和方法難以制備的高熔點(diǎn)、多元素（特別是含有氣體元素時(shí)）、復(fù)雜層狀結(jié)構(gòu)的薄膜和超晶格的制備。此外，它還可以同時(shí)進(jìn)行激光與物質(zhì)相互作用及成膜過程的物理、化學(xué)觀測，為探索、開發(fā)新材料、新器件及相關(guān)基礎(chǔ)研究提供了一個(gè)強(qiáng)有力的平臺。
以上內(nèi)容僅供參考，如需更多信息，可咨詢激光分子束外延系統(tǒng)方面的專家。激光分子束外延系統(tǒng)的核心部分是激光脈沖沉積系統(tǒng)，該系統(tǒng)使用高能量的脈沖激光束照射靶材，使靶材表面瞬間達(dá)到高溫高壓狀態(tài)，進(jìn)而蒸發(fā)、離化靶材原子或分子，形成高溫、高密度的等離子體羽輝。這些離子、原子或分子在羽輝中迅速冷卻并定向傳輸?shù)交砻?，最終沉積形成薄膜。
激光 分子束外延系統(tǒng)的另一個(gè)重要組成部分是超高真空系統(tǒng)，該系統(tǒng)能夠在生長過程中保持真空度，有效防止雜質(zhì)和污染物對薄膜生長的影響。同時(shí)，該系統(tǒng)還配備了多種原位監(jiān)測和表征手段，如反射式高能電子衍射儀（RHEED）、光學(xué)顯微鏡、橢偏儀等，可以對薄膜生長過程進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)控和精確控制。
此外，激光分子束外延系統(tǒng)還具有高度的靈活性和可擴(kuò)展性。通過改變靶材和基片的種類，以及調(diào)整激光參數(shù)和生長條件，可以制備出各種不同類型、不同性能的薄膜材料。同時(shí)，該系統(tǒng)還可以與其他先進(jìn)的實(shí)驗(yàn)設(shè)備和技術(shù)相結(jié)合，如原子力顯微鏡（AFM）、掃描隧道顯微鏡（STM）等，以進(jìn)一步探索薄膜材料的物理和化學(xué)性質(zhì)。
總之，激光分子束外延系統(tǒng)是一種功能強(qiáng)大、應(yīng)用廣泛的薄膜制備技術(shù)，它在材料科學(xué)、物理學(xué)、電子學(xué)等領(lǐng)域的研究和應(yīng)用中發(fā)揮著重要作用。隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展，激光分子束外延系統(tǒng)將在更多領(lǐng)域展現(xiàn)出的優(yōu)勢和潛力。
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