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簡要描述:超高真空磁控濺鍍設(shè)備超高真空環(huán)境的特徵為其真空壓力低於10-8至10-12 Torr,且在化學(xué)、物理和工程領(lǐng)域十分常見。
詳細(xì)介紹
品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子 |
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超高真空磁控濺鍍設(shè)備超高真空環(huán)境的特徵為其真空壓力低於10-8至10-12 Torr,且在化學(xué)、物理和工程領(lǐng)域十分常見。超高真空環(huán)境對於科學(xué)研究非常重要,因?qū)嶒?yàn)通常要求在整個(gè)實(shí)驗(yàn)的過程中,表面應(yīng)保持無污染狀態(tài)並可使用較低能量的電子和離子的實(shí)驗(yàn)技術(shù)使用,而不會受到氣相散射的干擾。SYSKEY可以在這樣超高真空環(huán)境下使用濺鍍系統(tǒng)以提供高品質(zhì)的薄膜。
超高真空磁控濺鍍設(shè)備針對超高真空和高溫加熱設(shè)計(jì)的基板旋轉(zhuǎn)鍍膜機(jī)構(gòu),使用陶瓷培林旋轉(zhuǎn),並在內(nèi)部做水冷,來保護(hù)機(jī)構(gòu)以確保長時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)的穩(wěn)定。
應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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配置和優(yōu)點(diǎn) | 選件 |
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